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電鍍填通孔工藝電鍍中試線



     目前電鍍填通孔應用越來越廣,尤其隨著智能手機以及PC消費類終端,

【1】縮短PCB 流程;節省客戶制程成本;
【2】市場處于萌芽成長期,尤其對于HDI(逐步趨向采用填通孔工藝);市場前景廣闊;

【3】終端市場手機,智能產品 更新升級,對于PCB以及載板技術升級對于此工藝能力需求提升;

       我司根據國內外先進VCP設備的設計理念,結合目前國內IC載板/HDI等產品對于通孔電鍍填孔需求,以及我司電鍍填通孔產品 OKUNO LTF(填通孔)& HV系列(高電流密度盲孔填孔);設計了電鍍填孔中試線盲孔以及通孔電鍍填充 打樣與研發需求。

目前實驗槽技術規格如下:

1. 用途:可實現 FPC 盲孔電鍍,HDI普通以及填孔電鍍,MSAP以及SAP電鍍;同時適合于評價 C/F,濾芯等過濾能力與效果;

2.板厚(掛架設計):PI Core Min 0.02mm;FR4 及BT Min0.03mm,背板MAX 6.0mm:

3.陽極類型:不溶性(Magneto,低耗量類型);可溶性(銅球 Cu-P);

4.產品尺寸:長方向:MAX 610mm;短方向:MAX 510mm;

5.整流機電流:匹配 0-6ASD 電流密度;

6. 電鍍槽可調變量:溫度,搖擺幅度(5-10cm),搖擺速率(0-2.0m/min);噴流流量(10-200L/min); 噴嘴間距(5-10cm)等;


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