產量:
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設備原理:
1.本研磨機為雙面精密研磨拋光設備,被磨、拋工件放于下研磨盤上,上下研磨盤相對或同向轉動,工件由中心齒輪轉動載體使工件自轉或公轉,通過氣缸對上磨盤施壓,工件與研磨盤作相對運動均勻磨擦,來達到對工件的研磨拋光目的。
技術參數:
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