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該Linseis L75/HP 高壓熱膨脹儀大大拓展了熱分析的應(yīng)用范圍。該系統(tǒng)可以在溫度從室溫到1100/1400/1800 ℃,并在該壓力達(dá)到100/150 bar的環(huán)境中測(cè)量的材料的膨脹(長(zhǎng)度的改變)。此設(shè)備是高壓膨脹儀。可選用水蒸氣發(fā)生裝置和多氣體控制系統(tǒng)。
為了測(cè)量數(shù)據(jù)和拓寬測(cè)量范圍,可以使用QMS和FTIR對(duì)逸出的氣體進(jìn)行分析。耦合后的功能超過單獨(dú)部件的總和。用戶通過LINSEIS耦合技術(shù)和綜合硬件和軟件,采用不同數(shù)據(jù)庫(kù)對(duì)數(shù)據(jù)進(jìn)行分析以得到結(jié)果。
| 型號(hào) | DIL L75 HP / 1 | DIL L75 HP/2 | 
| 溫度范圍* | RT -- 1100°C | RT -- 1400/1800°C | 
| 壓力 | ≤150 bar | ≤100 bar | 
| 真空 | 10E-4 mbar | 10E-4 mbar | 
| 樣品支架 | 熔融石英 < 1100°C | 熔融石英 < 1100°C | 
| Al2O3< 1750°C | Al2O3< 1750°C | |
| 樣品長(zhǎng)度 | ≤50 mm | ≤50 mm | 
| 樣品直徑 | 7/12/20 mm | 7/12/20 mm | 
| 可調(diào)樣品壓力 | ≤ 1000 mN | ≤ 1000 mN | 
| 測(cè)量范圍 | 500 / 5000 μm | 500 / 5000 μm | 
| 分辨率 | 0.125 nm | 0.125 nm | 
| 可選裝置 | 壓力可控混氣系統(tǒng) (MFC′s) | 壓力可控混氣系統(tǒng) (MFC′s) | 
| 氣氛 | 惰性, 氧化性**, 還原性, 真空 | 惰性, 氧化性**, 還原性, 真空 | 
* 取決于不同爐體
** 不適用于石墨加熱爐
*價(jià)格范圍僅供參考,實(shí)際價(jià)格與配置等若干因素有關(guān)。如有需要,請(qǐng)撥打電話咨詢。我們定會(huì)將竭盡全力為您制定完善的解決方案。
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