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208HR高分辨離子濺射儀-適用于場發(fā)射掃描電鏡
一、主要特性
。可選擇多種鍍膜材料
。精確的膜厚控制
。樣品臺控制靈活:可對樣品臺進行獨立的旋轉(zhuǎn)、行星式轉(zhuǎn)動、傾斜控制,保證形貌差異大的樣品也能得到**的鍍膜效果。
。多個樣品座:提供4個樣品座,每個樣品座直徑32mm,可裝載多達6個小樣品座。
。樣品室?guī)缀慰勺儯?/strong> 樣品室?guī)缀斡糜谡{(diào)節(jié)鍍膜的速率(1.0nm/s ~ 0.002nm/s)
。寬范圍的操作壓力:獨立的功率和壓力調(diào)節(jié),氬氣的壓力大小范圍為0.2 - 0.005 mbar。
。緊湊、現(xiàn)代的桌上型設(shè)計
。操作容易
二、技術(shù)參數(shù)
| 濺射系統(tǒng) | |
| 鍍膜頭 | 低電壓平面磁控管 靶材更換快速 環(huán)繞暗區(qū)護罩 靶材調(diào)節(jié)遮擋 | 
| 靶材 | Cr, Pt/Pd (標(biāo)配) Ta, Au, Au/Pd, Pt, W, Ir (選配) | 
| 鍍膜控制 | 微處理器控制 安全互鎖 電流控制與真空度無關(guān) 數(shù)字化可選電流(20,40,60 和 80mA) | 
| 樣品室大小 | 直徑150mm 高度165 - 250mm | 
| 樣品臺 | 非重復(fù)的旋轉(zhuǎn)、行星式轉(zhuǎn)動,并可手動傾斜0-90° 轉(zhuǎn)動速度可調(diào) 晶體頭 4個樣品臺 | 
| 模擬計量 | 真空 Atm - .001mb 電流 0-100mA | 
| 控制方法 | 自動氣體凈化和泄氣功能 自動處理排序 帶有“暫停”功能的數(shù)字計時器 自動放氣 | 
| 膜厚控制 | MTM-20高分辨膜厚控制儀 | 
| 真空系統(tǒng) | |
| 結(jié)構(gòu) | 分子渦輪牽引泵和旋葉泵組合, 代替旋葉泵的無油渦旋式真空泵(選配) | 
| 抽真空速度 | 0.1mb 下300 l/min | 
| 抽真空時間 | 1 mbar 至 1 x 10-3mbar | 
| 極限真空 | 1 x 10-5mbar | 
| 桌上型系統(tǒng) | 旋葉泵置于抗震臺上,全金屬真空耦合系統(tǒng) | 
| 膜厚測控儀 | |
| MTM-20 | 基于微處理器,4位數(shù)字顯示,復(fù)位按鈕, 6MHz晶體(具有壽命檢查功能),5次/s的更新速率 | 
| 膜厚范圍 | 0.0 - 999.9nm | 
| 分辨率 | 優(yōu)于 0.1nm | 
| 密度范圍 | 0.50 - 30.00gm/cm3 | 
| 修正系數(shù)范圍 | 0.25 - 8.00 | 
| 鍍膜終止范圍 | 膜厚0 - 999.9nm | 
| 系統(tǒng)要求 | |
| 電氣 | 100-120 或 200-240VAC, 50/60Hz | 
| 功率 | 550VA(**) | 
| 氬氣 | *小純度99.995% 調(diào)節(jié)壓力 5 - 6 psi (0.4 bar) 6.0mm ID連接軟管 | 
208HR高分辨離子濺射儀為場發(fā)射掃描電鏡應(yīng)用中遇到的各種樣品噴鍍難題提供真正的解決方案。
場發(fā)射掃描電鏡觀察時,樣品需鍍上極其薄、無細(xì)晶且均勻的膜層以消除電荷積累,并提高低密度材料的對比度。為了將細(xì)晶的尺寸減小到*小程度,208HR提供了一系列的鍍膜材料,并對膜厚和濺射條件提供無可媲美的控制。
208HR分子渦輪泵高真空系統(tǒng)提供寬范圍的操作壓力,可以對膜層的均勻性和一致性進行精確控制,并**程度減小充電效應(yīng)。高/低樣品室的結(jié)構(gòu)設(shè)計使靶材和樣品之間的距離調(diào)節(jié)變得極為方便。
MTM-20高分辨膜厚控制儀分辨率小于0.1nm,其作用是對所鍍薄膜的厚度進行精確控制,它尤其適合場發(fā)射電鏡對膜厚(0.5-3nm)的要求。
場發(fā)射掃描電鏡鍍膜推薦的靶材是:
。Pt/Pd:非導(dǎo)電樣品鍍膜的通用鍍膜材料
。Cr:優(yōu)良的半導(dǎo)體樣品的鍍膜材料
。Ir:優(yōu)良的真正無細(xì)晶的鍍膜材料
208HR系統(tǒng)為得到**高分辨鍍膜效果提供了多種配置選擇,可配備標(biāo)準(zhǔn)的旋片泵或提供干凈真空的無油渦旋式真空泵,標(biāo)配的208HR包含Cr 和 Pt/Pd靶。
暫無數(shù)據(jù)!
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