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DENTON 磁控濺射及電子束蒸發薄膜沉積平臺：

DENTON 真空使創新成為可能，并已超過50年。

全球成千上萬的薄膜沉積工具安裝，包括一個大型的、在全球范圍內安裝的精密光學沉積系統——工程師和研究人員依靠DENTON 的薄膜創新驅動更高的吞吐量，更好的收益和低擁有成本(**運營官)，受益于綜合服務和支持，和一個專門的研發項目，提供可行的技術。

探索者提供了薄膜工業中*廣泛的配置和沉積模式:電子束蒸發、電阻蒸發、濺射、離子鍍和離子輔助沉積。

DENTON 薄膜沉積平臺

•R & D

•批量生產

•在線生產

•蒸發

•濺射

•PE-CVD

DENTON 的區別

你們的過程就是我們的過程。

我們與您合作設計一個系統，以解決您的確切薄膜涂裝工藝的需要。當我們給你運送工具時，它已經準備好生產了。

•我們的系統規模可以滿足您的生產需求

•我們永遠相信客戶

•全球支持網絡

在DENTON，我們關心你的成功

•工廠驗收測試

•個性化培訓

•遠程、實時支持

•CE / UL / CSA兼容系統

能濺射

電、磁、復合材料。柔性陰極，調整到沖擊角也可用。

強大的控制系統

可在半手動模式或全自動模式與一個推動自動化，以減少系統停機時間。

Processpro升級提供:

1.所有登頓真空產品的一致性控制。

2.標準軟件使其易于支持和避免昂貴的定制費用。

3.源代碼為您的程序，以便您可以自定義您的程序。

4.網絡功能使資源管理器

網絡上支持實時、遠程支持和升級的節點。

靈活的室大小

可容納多達10英寸的襯底。

多個泵配置

多種擴散、低溫和渦輪泵配置可用于滿足您的預算和工藝。后方或底部安裝的泵提供方便的訪問服務，根據您的工作場所的需要。

典型的應用

PE-CVD

•材料研究

•小批處理系統

•3 d對象

•覆蓋各種材料

濺射

•材料研究

•產品質量控制和質量保證

•半導體失效分析

•CD掌握

•納米技術

•化合物半導體

•oled

蒸發

•材料研究

•離子輔助沉積(IAD)

•醫療設備

•電信

•CD掌握

•發射

•保護涂層

選項：