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芬蘭PICOSUN高級原子沉積機P-300B Advanced ALD
技術參數
。基片尺寸和類型 300mm晶圓10片/批次（標準間距）
。200mm晶圓25+2片/批次（標準間距）
工藝溫度 ：50 - 500 °C
基片傳送選件：。 氣動升降（手動加載）
。半自動裝載，用線性裝載器實現
。52片晶圓盒式全自動裝載，用真空批量Load lock實現
前驅體： 。液態，固態，氣態，臭氧源
。前驅源余量傳感器，并提供清洗和裝源服務
。4根獨立源管線，*多加載6個前驅體源
重量 ：400 + 300 kg
尺寸： (W x H x D) 149 cm x 191 cm x 111 cm
選件 ：PICOFLOW™ 擴散增強，N2發生器，尾氣處理器，定制設計，與工廠軟件連接服務。
驗收標準 ：標準設備驗收標準為 Al2O3 工藝
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