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芬蘭PICOSUN原子層沉積機P-300S Pro ALD

技術(shù)參數(shù)

襯底尺寸和類型 ：**300mm晶圓/單片

工藝溫度： 50 - 500 °C

基片傳送選件：

。 半自動裝載，用單片Load lock與磁力操縱桿實現(xiàn)

。25片晶圓盒對盒式全自動裝載（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM™ 300集群系統(tǒng)實現(xiàn)

標準 ：SEMI S2認證

前驅(qū)體：

。液態(tài)，固態(tài)，氣態(tài)，臭氧源

。等離子體（僅供200mm晶圓使用，*多4路氣體）

。前驅(qū)源余量傳感器，并提供清洗和裝源服務

。6條獨立源管線，*多加載8個前驅(qū)體源（*多12個前驅(qū)體源，加上plasma管路共7根獨立源管線）

重量：820 kg

尺寸：(W x H x D) 160 cm x 80 cm x 240 cm

選件： 集群工具，PICOFLOW™擴散增強，N2發(fā)生器，尾氣處理，定制設(shè)計，與工廠軟件連接服務。

驗收標準 ：

。標準設(shè)備驗收標準為Al2O3工藝，

。其他工藝可具體協(xié)商：其他工藝、應用具體驗收標準如：

- 不均勻性

- 顆粒物含量

- 重金屬污染

- 電學性能