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芬蘭PICOSUN 生產型原子層沉積機P-200S Pro ALD
技術參數
襯底尺寸和類型：
。50 – 200 mm /單片
。156 mm x 156 mm 太陽能硅片
。150 mm x 150 mm 顯示面板
工藝溫度：50 - 500 °C ， 可選更高溫度
基片傳送選件 ：
。氣動升降（手動裝載）
。半自動裝載，用PICOPLATFORM™200集群系統實現
。25片晶圓盒對盒式全自動裝載（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM™200集群系統實現
標準： SEMI S2 認證（認證中）
前驅體：
。 液態， 固態， 氣態， 臭氧源， 等離子體（*多4路氣體）：
。前驅源余量傳感器，并提供清洗和裝源服務
。6根獨立源管線，*多加載12個前驅體源（加上Plasma管路，共7根獨立源管線）
重量 ：790 kg
尺寸 ：(W x H x D) 160 cm x 80 cm x 240 cm
可選件 ：集群工具， PICOFLOW™ 擴散增強器， 集成橢偏儀， QCM， RGA， N2發生器，尾氣處理器，定制設計，與工廠軟件連接服務。
驗收標準 ：。標準設備驗收標準為 Al2O3 工藝，
。其他工藝可具體協商：其他工藝、應用具體驗收標準如：
- 不均勻性
- 顆粒物含量
- 重金屬污染
- 電學性能
一個PICOPLATFORM™ 200真空集群系統由兩臺PICOSUN™ P-200S ALD設備組成，帶等離子體源PICOPLASMA™。
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