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芬蘭PICOSUN 生產型原子層沉積機P-200S Pro ALD
技術參數
襯底尺寸和類型:
。50 – 200 mm /單片
。156 mm x 156 mm 太陽能硅片
。150 mm x 150 mm 顯示面板
工藝溫度:50 - 500 °C , 可選更高溫度
基片傳送選件 :
。氣動升降(手動裝載)
。半自動裝載,用PICOPLATFORM™200集群系統實現
。25片晶圓盒對盒式全自動裝載(cassette-to-cassette),用PICOPLATFORM™200集群系統實現
標準: SEMI S2 認證(認證中)
前驅體:
。 液態, 固態, 氣態, 臭氧源, 等離子體(*多4路氣體):
。前驅源余量傳感器,并提供清洗和裝源服務
。6根獨立源管線,*多加載12個前驅體源(加上Plasma管路,共7根獨立源管線)
重量 :790 kg
尺寸 :(W x H x D) 160 cm x 80 cm x 240 cm
可選件 :集群工具, PICOFLOW™ 擴散增強器, 集成橢偏儀, QCM, RGA, N2發生器,尾氣處理器,定制設計,與工廠軟件連接服務。
驗收標準 :。標準設備驗收標準為 Al2O3 工藝,
。其他工藝可具體協商:其他工藝、應用具體驗收標準如:
- 不均勻性
- 顆粒物含量
- 重金屬污染
- 電學性能
一個PICOPLATFORM™ 200真空集群系統由兩臺PICOSUN™ P-200S ALD設備組成,帶等離子體源PICOPLASMA™。
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