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產品簡介：該設備為小型三靶磁控濺射鍍膜設備，通過模塊式化設計后，系統安裝方便靈活易于維護，適合科研與教學實驗使用。
產品型號 | 三靶高真空磁控鍍膜濺射系統 |
主要特點 | 1、組成由單室超高真空雙靶磁控濺射室，由濺射真空室與管路組成。 2、配有旁抽系統，啟動快不停機即可更換樣品，重復性好。 3、用于鍍制各種單層膜、多層膜系，可實現單靶獨立、雙靶輪流、雙靶共濺射等濺射模式。 4、同時可以實現反應磁控濺射，制備氮化物，氧化物等，可鍍金屬及導磁金屬、合金、化合物、半導體、介質復合膜和其它化學反應膜。 5、作為試驗設備來說達到了**的性能價格比。 |
技術參數 | 系統由真空腔室、旋轉樣品架、磁控濺射靶、鎧裝加熱器、抽氣系統、真空測量、工作氣路、電控系統等各部分組成。 極限真空優于：5.0x10-5Pa（經烘烤除氣后） 真空漏率小于2.0x10-8Pa.l/S 系統短時間暴露大氣并充干燥氮氣后，再開始抽氣，40分鐘可達到6.0x10-4Pa； 停泵關機12小時后真空度：≤5 Pa 1、 真空室腔體尺寸Ф300x350mm，手動上開蓋輔助液壓結構，前有一個觀察窗，樣品臺可旋轉內部連接鎧裝加熱器、真空規、放氣閥等各種規格的法蘭接口，選用優質不銹鋼材料制造，氬弧焊接，表面采用電解拋光處理。采用金屬或氟橡膠圈密封。配備一體機柜標準電箱。 2、磁控濺射靶 靶材尺寸：Φ50mm（其中一個可以濺射磁性材料）； 永磁靶一支、強磁靶一支：射頻濺射與直流濺射兼容，靶內有水冷；配手動擋板。 2個靶可共同向下面的樣品中心濺射，靶與樣品距離90～110mm可調。 3、鎧裝加熱樣品: 加熱區域為Φ100mmX100mm(H)，基片加熱**溫度 室溫-600°C±1°C，由熱電偶閉環反饋控制。 配有磁力轉軸，電機驅動每分鐘低于30轉。 |
標準配件 | 1、真空部件 進氣角閥：2套； RF100觀察窗：1套； 觀察窗法蘭：RF100 2個； 電阻規： KF16 1個； 電極引線： CF25 1個； 2、工作真空獲得及測量： 直聯6L/s機械泵： 1臺； F600分子泵：1臺； 電磁KF20閥：1臺； 5227真空計：1臺 角閥RF16、管路、接頭、充氣閥D6等： 1路； KF25電磁壓差閥： 1臺； CF100閘板閥：1臺； 3、相關規格的金屬密封銅圈，氟橡膠密封圈 4、不銹鋼緊固螺栓、螺母、墊片等 5、安裝機臺架組件: 安裝臺架：整個設備安放在一個用承載式標準電箱上，箱體均進行噴塑處理。拆卸方便占地小780mmX580mmx1100mm。 6、電源控制系統 電源布置在標準電箱上，安裝于系統機架上。 7、自制電源 控制電源：1臺（為機械泵、電磁閥等提供電源及過程控制帶邏輯監測）； 樣品加熱電源：1臺（日本產控溫表可實現程序控溫）室溫-600°C±1°C，由熱電偶閉環反饋控制。 8、配套電源 真空計電源：1套 直流DC500W電源：2套 流量顯示、流量控制器：1套 9、備品備件：1套 |
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