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電子束蒸發技術

NEE-4000（A）全自動電子束蒸發系統概述：

NANO-MASTER NEE-4000電子束蒸發系統有兩種不同的構造可供選擇。**種為垂直緊連的雙腔架構，其中主腔體是14英寸的立方體，其內有樣品臺，底部二級腔體則用于安置電子束源。這種構造可在兩個腔體之間裝有門閥互鎖，可實現主腔體放取片過程保持電子束源和坩堝的真空狀態。若需實現自動上下片，通過在主腔體左邊增加帶真空閥門的進樣室即可。這樣，主腔體可以持續保持10^-7托范圍的低壓，裝片后幾分鐘內就可進行蒸鍍。第二種構造為一個獨立大腔體，基板上安裝電子束蒸鍍腔、磁控槍和熱蒸鍍。該構造可涂覆多種尺寸的晶圓，過程中使用行星運動的樣品臺。

NANO-MASTER公司可通過樣片掩膜實現組合蒸鍍，并可通過電腦控制單個電子束蒸鍍的蒸鍍速率。

NEE-4000系統特點：

• 電拋光14"立方體或21"x21"x22"不銹鋼優化蒸鍍腔體

• 680 l/sec 渦輪分子泵，串接機械泵或干泵

• 4x 15CC pocket電子槍

• 電子束源和基片遮板

• 6KW開關電源，杰出的消弧性能

• 自動Pocket索引以及可編程的掃描控制器

• 膜厚監測，可設置目標膜厚作為工藝終點條件

• 旋轉樣品臺，提供高均勻性

• 帶觀察視窗的腔門，便于放片/取片

• PC全自動控制，具有高度的可重復性

• Labview軟件的計算機全自動工藝控制控

• 多級密碼保護的授權訪問設計

• EMO保護以及完全的安全聯鎖

NEE-4000系統可選項:

• 基片加熱(**可到800℃)或冷卻

• 帶旋轉的傾斜沉積

• 行星運動式基片夾具

• 基片RF/DC偏壓

• 基片清洗的離子源以及離子輔助蒸鍍

• 附加物理沉積源（熱蒸鍍，磁控濺射）

• 用于反應蒸鍍的MFC

• 不同的泵組選擇

• 進樣室和自動上下片/可支持單片和25片片夾

NEE-4000系統應用:

• 剝離

• 光學涂覆

• 銅銦鎵硒(CIGS)

• 約瑟夫森連接

• OLED