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EMS150 T離子濺射鍍膜儀的機殼是整體成型的，結構堅固耐用，配有氣冷的70L/S的渦輪分子泵，自動進氣控制保證了濺射期間**的真空水平，真空腔室直徑為165mm并帶有防爆裝置。EMS150T具有“真空閉鎖”功能，可在設備不工作時維持腔室的真空度，從而保證高真空的性能。
EMS150 T離子濺射鍍膜儀系列全自動高真空離子濺射/熱蒸發一體化鍍膜儀給用戶以類似傻瓜相機的簡單操作、**的鍍膜質量和對熟手/新手都很理想的用戶界面，讓用戶真正領略****的鍍膜品質！
EMS150 T離子濺射鍍膜儀根據不同的應用方向，EMS150T細分為三個型號：
EMS150TS：高分辨率濺射鍍膜儀High Resolution Turbomolecular Pumped Sputter Coater，可濺射易氧化和不易氧化金屬，可選各種濺射靶材，包括場發射電鏡常用的銥和鉻。
EMS150TE：高真空鍍碳儀，可制作高穩定的碳膜和表面覆形膜，是TEM應用*理想的選擇。
EMS150TES：集合了離子濺射和熱蒸鍍兩種真空沉積鍍膜方式，鍍膜頭可在幾秒內快速更換，只能邏輯系統自動識別所裝的鍍膜頭類型，并顯示相應的操作模式。
注：上述各型號都可配備如下可選的附件：金屬蒸鍍、碳絲蒸鍍、膜厚測量等
觸摸屏控制：
EMS150 T離子濺射鍍膜儀操作十分簡單，直觀的觸摸屏，即使*不熟練的操作者也可以自由操作，同時可方便的鍵入和存儲數據。為了方便使用，設備中已經預存一些了典型的濺射和蒸發鍍膜參數資料。
鍍膜插入頭選項：
具有一系列可互換、即插即用的鍍膜插入頭
濺射插入頭適用于易氧化和不易氧化金屬材料，直徑57mmX0.3mm厚鉻靶為標準靶材
可用另外的濺射插入頭來快速更換鍍膜材料（僅為TS和TES型號）
適用于3.05mm碳棒蒸發插入頭
適用于6.15mm碳棒蒸發頭，建議使用3.05mm直徑的碳棒，它們更容易控制、更經濟
碳絲蒸發插入頭
金屬蒸發和光闌潔凈頭，包括向上蒸發或向下蒸發（僅為TE和TES型號）
樣品臺選項
EMS150T具有各種易更換的樣品臺，drop-in落入式設計具高度可調（除旋轉行星臺）。
標準配置為旋轉臺， 直徑為50mm
可預設傾斜角度的旋轉臺（可選）
可變角度旋轉行星臺（可選）
可用于4〞晶圓的平面旋轉臺（可選）
顯微鏡載玻片樣品臺（可選）
其它選項
用于高樣品的加高腔室
膜厚監測器（FTM）
用于測量低和高真空的全范圍真空計
特點和優點:
金屬濺射或碳蒸發或兩者兼備：一體化設計，節約空間
精細顆粒濺射：高分辨率場發射掃描電鏡（FE-SEM）制樣的精細鍍膜應用
渦輪分子泵高真空系統：允許不氧化貴金屬和易氧化其它金屬靶材的濺射鍍膜，大大拓寬了可濺射靶材范圍，既適合普通SEM、高分辨率FE-SEM鍍膜制樣應用，也為許多薄膜應用等材料科研領域提供理想的鍍膜平臺
全自動觸摸屏控制：快速數據輸入，簡單操作
可儲存多個客戶自定義鍍膜方案：對多用戶實驗室十分理想
與鍍膜過程和鍍膜材料相匹配的預編程自動真空控制
精細的厚度控制：使用膜厚監控選項
“智能”式系統識別：自動感知用戶所裝的插入式鍍膜頭的類型
高真空碳蒸鍍：對SEM和TEM鍍碳膜應用非常理想
蒸發電流波形控制
Drop-in落入式快換樣品臺（標配旋轉臺）
真空閉鎖功能：可讓工作腔室處于真空狀態，改善后續真空效果，或在真空條件下保存樣品
鍍制厚膜能力：一次真空條件下的濺射時間可長達60分鐘（材料科研領域的應用）
人體工程學設計的整體成型機殼：易維護和易拆裝
帶有本地FTP服務器連接的以太網端口：簡單的程序更新
設有功率因素補償，有效利用電能，降低運行成本
符合當前電器法規（CE認證）
EMS150 T離子濺射鍍膜儀儀器參數：
儀器尺寸 | 585mm寬*470mm*410mm高(總高650mm) |
重量 | 33.4KG |
工作腔室 | 150mm（內徑）*127mm（高）硼硅酸鹽玻璃腔室，并帶整體安全防護罩 |
觸摸屏用戶界面 | 帶有觸摸按鈕的全圖像界面，包含多達十個鍍膜程序，可提醒何時需要維護 |
工作腔室 | 150mm（內徑）*127mm（高）硼硅酸鹽玻璃腔室，并帶整體安全防護罩 |
樣品臺 | 轉速為8-20rpm的旋轉臺 |
真空系統 | 渦輪子分子泵：帶有內部空氣卻的渦輪分子泵，抽速為70L/s 旋轉機械泵：抽速為50L/m的兩級旋轉機械泵，帶有油污過濾器 |
真空測量 | 皮拉尼真空計作為標配 |
極限真空度 | 10-5mbar兩級 |
電源需求 | 90-250V~50/60Hz 1400VA（ 包括旋轉機械泵電壓240V） |
氣體 | 濺射工作氣體氬氣，99.999%（TS和TES版本）；氮氣，放氣破真空氣體（可選） |
金屬蒸發和光闌清潔頭 | 用于源自鎢絲籃或舟的金屬熱蒸發。可配備一個標準鉬舟用于清潔SEM或TEM光闌 |
碳蒸發 | 穩定的無紋波直流電源控制的脈沖蒸發，確保源自碳棒或碳絲的可重復蒸碳 |
電流脈沖 | 1-90安培 |
濺射 | 0-150mA。可預設膜厚（需FTM選項）或使用內置定時器 |
濺射工作真空范圍 | 5*10-3到5*10-1mbar |
濺射靶材和碳耗材供應 | EMS150TS和EMS150TES標配鉻靶，但可選用的其它靶材范圍很寬，包括那些廣泛用于SEM制樣的靶材，如：Au金靶，Au/pd金鈀，Pt鉑靶，和Iridium銥靶。對非SEM應用，可選用的靶材包括：AI鋁，Ta鉭，ITO氧化銦錫，Fe鐵，W鎢，Ti鈦，等等：碳制品包括高純度碳絲。 |
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