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等離子體監控系統
PlasCalc 等離子體監測控制儀，實現200nm-1100nm波段內的等離子體測量，通過高級過程控制系統及精密數據存取算法，只需3ms就可以獲得測量結果。
1、光學分辨率1.0nm(FWHM)
2、光譜范圍 200-1100nm
3、快速的建模及存儲實驗方法
Recipe編輯器有助于簡單快捷的配置、構建及存儲實驗方法。對一些困難的等離子體工序諸如膜沉積測量、等離子體蝕刻監測、表面潔度監測、等離子體室控制及異常污染、排放監測等，能夠快速簡單的構建模塊過程控制。
隨PlasCalc配置的操作軟件，集成的程式編輯器能夠容易實現多種數學算法功能。可選的波長發生器（可以單獨購買）用于類型確認，而波長編輯器可以用于優化信噪比。雙窗口界面用于顯示實際光譜及所有過程控制信息。
| 光譜范圍: | 200-1100 nm |
| 光學分辨率: | 1.0 nm (FWHM) |
| D/A 轉換: | 14 bit |
| 數字I/O: | 8 x TTL |
| 模擬輸出: | 4 x [0-10V] |
| 接口: | USB 1.1 |
| 功耗: | 12 VDC @ 1.25 A |
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