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C11665-01 微米膜厚測量儀
特性
無參照物工作
尺寸緊湊,節(jié)省空間
高速、高準確度
不整平薄膜精確測量
分析光學常數(shù)(n,k)
可外部控制
參數(shù)
| 型號 | C11665-01 |
| 可測膜厚范圍(玻璃) | 0.5 μm to 700 μm*1 |
| 可測膜厚范圍(硅) | 0.5 μm to 300 μm*2 |
| 測量可重復性(硅) | 0.1 nm*3 *4 |
| 測量準確度(硅) | ±1 %*4 *5 |
| 光源 | LED |
| 測量波長 | 940 nm to 1000 nm |
| 光斑尺寸 | Approx. φ1 mm*4 |
| 工作距離 | 5 mm*4 |
| 可測層數(shù) | **10層 |
| 分析 | FFT 分析,擬合分析,光學常數(shù)分析 |
| 測量時間 | 19 ms/點*6 |
| 光纖接口形狀 | FC |
| 外部控制功能 | RS-232C / Ethernet |
| 電源 | AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz |
| 功耗 | 85W |
*1:SiO2薄膜測量特性
*2:Si薄膜測量特性
*3:測量6 μm厚硅薄膜時的標準偏差
*4:取決于所使用的光學系統(tǒng)或物鏡的放大率
*5:在標準量具的測量保證范圍內
*6:連續(xù)數(shù)據(jù)采集時間不包括分析時間
暫無數(shù)據(jù)!
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