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得到50nm范圍內的研磨
較小的研磨腔體和強大的輸入功率,同樣是很小粒徑的研磨介質得到高強的運動,剪切。平均粒徑常在50nm以內。
使用0.1-0.8mm的研磨介質
改進設計的棒銷體系,使較小的鋯珠能夠高速運轉,離心式分離系統,在使用較小鋯珠的同時,保持出料順暢,實現高流量。
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