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| 四氟化碳（CF4） | |
| 化學式 | CF4 |
| 中文名稱 | 四氟化碳 |
| 英文名稱 | Carbon tetrafluoride |
| CAS No. | 75-73-0 |
| 分子量 | 88.005 |
| 充裝量 | 13.5Mpa（21.1度） |
| 應用 | 四氟化碳是目前半導體產業中用量**的等離子蝕刻氣體，其高純氣及四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體，可廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的蝕刻。對于硅和二氧化硅體系，采用CF4-H2反應離子刻蝕時，通過調節兩種氣體的比例，可以獲得45：1的選擇性，這在刻蝕多晶硅柵極上的二氧化硅薄膜時很有用。 |
| 產品規格 | ≥99.999% |
四氟化碳，又稱為四氟甲烷、Freon-14及R 14，是一種鹵代烴（化學式：CF4）。它既可以被視為一種鹵代烴、鹵代甲烷、全氟化碳，也可被視為一種無機化合物。
-198 °C時，四氟化碳具有單斜的結構，晶格常數為a = 8.597, b= 4.433, c = 8.381 (.10-1 nm), β = 118.73° 。
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