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1.核心技術
（1）雙光路設計提升重復性精度dE*ab≤0.02
雙光路設計在測量樣品信號的同時監測光源能量波動，在測量時減少干擾，獲得更高的測量穩定性，將儀器測量重復性指標提高至dE*ab≤0.02。保證了儀器，測量速度、準確性、穩定性和臺間差一致性高標準。
（2）創新的凹面光柵光路結構
創新是彩譜的靈魂。歷經近10年的潛心研究，彩譜采用納米集成光學器件作為分光器件，只需5微米厚度的光學器件即可實現了納米級別的分光能力，再一次**了行業創新方向，跨越了國外產品的技術封鎖，極大的提升了產品的技術表現。
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