測量范圍：
夠檢測 ≥ 0.1μm 聚苯乙烯乳膠（PSL）等效顆粒（經 NIST 認證）誤差率：
-分辨率：
100nm重現性：
-分散方式：
-測量時間：
可在數秒內完成 4 至 12 英寸掩膜版｜保護膜成像看了掩膜版｜保護膜表面顆粒物快速檢測系統（PDS）的用戶又看了
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Fastmicro 掩膜版｜保護膜表面顆粒物快速檢測系統（PDS）
為掩膜版、掩膜版保護膜以及基板（襯底）制造工藝，提供高通量的表面顆粒污染檢測服務。
該系統對粒徑大于 0.1μm 的顆粒具有高靈敏度，是一種高效且提供全方位服務的選擇。它能以手動或自動的操作方式，以及較低的維護成本，取代傳統的顆粒檢測系統。
產品特點：
高通量檢測：每小時可檢測 400 片晶圓（WPH）
數據輸出：根據 ISO 14644-9 標準，在用戶界面和 PDF 報告輸出 SCP 等級
正反兩面檢測：單次測量中完成正反兩面檢測（無需翻轉）
檢測范圍：能夠檢測 ≥ 0.1μm 聚苯乙烯乳膠（PSL）等效顆粒（經 NIST 認證）
生產過程中的一致性測量
快速: 能在數秒內完成大面積成像
定量: 適用于生產和研發環境中的質量鑒定與監測
操作簡便: 不受操作人員影響，自動化，潔凈抓取方式
精準: 高分辨率測量（數量、位置、尺寸）
一致性: 每次測量都保持客觀、穩定
高通量: 能在工藝時間窗口內得出結果
FM-PDS: 直接檢測表面顆粒
該系統可為晶圓制造工藝、下一代化合物半導體以及先進封裝應 用，提供高通量的表面顆粒污染檢測服務。
該系統對粒徑大于 0.1μm 的顆粒具有高靈敏度，是一種高 效且提供全方位服務的選擇。
它能以手動或自動的操作方式，以及 較低的維護成本，取代傳統的顆粒檢測系統。
對于下一代半導體生產應用， PDS 系統具備獨特的屬性：雙面同 時掃描（選配）；
靜態視場掃描（在圖像采集過程中無需移動產品）。
暫無數據！
2020-12-09
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2020-12-21
2020-12-21
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移動端
工商已核實
