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產品介紹：
提高潔凈的刻蝕環境，保證刻蝕精度和質量，用于晶圓刻蝕工藝
適用機型：
第三代半導體刻蝕機
產品參數：
基材：CVDSiC(純度>6N)
特點：純度高，耐腐蝕，高強度，化學性能穩定
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