粉碎程度:
超細(xì)粉碎單位能耗:
·產(chǎn)量:
·裝機(jī)功率(kw):
50w成品細(xì)度:
<1nm入料粒度(mm):
<0.5毫米看了球磨儀的用戶又看了
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XRD-Mill McCrone專為X射線衍射(XRD)分析的樣品制備而研發(fā),主要應(yīng)用于地質(zhì)學(xué)、化學(xué)、礦物學(xué)、材料科學(xué)、質(zhì)量控制以及研發(fā)等。
 XRD-Mill McCrone具有獨(dú)特的研磨方式:研磨塊的運(yùn)動為線性撞擊和平面剪切兩種方式,所以研磨時間短,幾乎沒有樣品損失,得到特別窄的粒徑分布。
 晶格在研磨過程中幾乎完全保留。  
 研磨容器是一個125 ml容量的聚丙烯罐,配一個無墊圈螺帽的聚乙烯蓋。研磨罐被48個有序排列的圓柱形研磨塊充滿,材質(zhì)有瑪瑙,氧化鋯和剛玉。**的磨時間是在3-30分鐘,典型的樣品體積是在2-4 ml之間。
borides, clay, mica, nitrides, slate, 建筑原料, 植物原料, 水泥, 玻璃, 礦物, 碳化物, 金屬, 陶瓷, 骨頭
研磨過程中晶格被保留。
粒徑分布窄。
幾乎沒有交叉污染。
緊湊、桌面型機(jī)型
可調(diào)研磨功率(4步)
適合于干磨和濕磨。
清洗方便。
免維護(hù)。
運(yùn)行安靜。
| 應(yīng)用 | 搗磨、混和與研磨制樣;干磨或濕磨 | 
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | X-ray diffraction | 
| 樣品特征 | 中硬性, 硬的, 脆性的, 含纖維的 | 
| **進(jìn)樣尺寸 | <0.5毫米 | 
| *終出料粒度 * | < 1 μm | 
| 網(wǎng)頻50赫茲(60赫茲)下的轉(zhuǎn)速 | 1,000 - 1,500 min-1 4步 | 
| 研磨平臺數(shù) (可接納研磨罐數(shù)) | 1 | 
| 典型粉碎時間 | 3 - 30 min | 
| 干磨 | 是 | 
| 濕磨 | 是 | 
| 低溫研磨 | - | 
| 研磨套件材料: | 瑪瑙, 氧化鋯, 金剛石 | 
| 研磨罐尺寸 | 125 ml | 
| 粉碎時間設(shè)定 | 數(shù)字顯示,00:00:01 至 99:59:50 | 
| 驅(qū)動 | DC-Motor | 
| 驅(qū)動功率 | 50W | 
| 電源數(shù)據(jù): | 220-240 V, 50/60 Hz | 
| 電源接頭: | 單相 | 
| 防護(hù)類型 | IP 30 | 
| 接受功率 | 100W | 
| 機(jī)體尺寸(寬x高x縱深) | 205 x 155 x 520 mm | 
| 凈重 | ~19 kg | 
| 標(biāo)準(zhǔn) | CE | 
Please note:
 受樣品材料性質(zhì)和儀器配置/設(shè)定的影響 
 XRD-Mill McCrone主要依靠摩擦力研磨樣品。48個圓柱形的研磨塊在罐內(nèi)排成8排,每排6件。
  XRD-Mill McCrone主要依靠摩擦力研磨樣品。48個圓柱形的研磨塊在罐內(nèi)排成8排,每排6件。
 在運(yùn)行過程中,罐子做圓周運(yùn)動,研磨塊把樣品從小于0.5 mm研磨到亞微米水平(通常小于10 um)。
 
 由于研磨過程很溫和,所以晶格可以完整保留。這使得XRD-Mill McCrone成為X射線衍射分析樣品制備的**選擇。 
根據(jù)技術(shù)改造和誤差調(diào)整
    研磨過程中晶格被保留。
    粒徑分布窄。
    幾乎沒有交叉污染。
    緊湊、桌面型機(jī)型
    可調(diào)研磨功率(4步)
    適合于干磨和濕磨。
    清洗方便。
    免維護(hù)。
    運(yùn)行安靜。						
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