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MPCVD主要用于合成石墨烯薄膜和各種碳納米材料，有一個水平石英管式爐。一個催化劑襯底(通常是銅鋁箔)放置在爐里，甲烷氣體或乙炔氣體從外部低流量和低壓地注入，在催化劑的襯托上形成石墨烯薄膜。
快速冷卻對于形成高質量的石墨烯薄膜非常重要，快速冷卻可以抑制碳過量的沉積在催化劑金屬箔上 (如銅或鎳箔)；系統配備了快速冷卻系統。管式爐向一側滑動30mm到反應爐，加熱的爐可以遠離樣品，從而快速冷卻樣品。通過非常簡單的方式達到快速冷卻的效果。
聯合日本科學與技術研究所（JST）開發，并且在多個國家注冊了該項技術的**！
主要特點：
1）快速加熱和制冷功能；
2）管式爐滑動裝置，可使得樣品快速加熱和冷卻；
3）特殊設計的測溫傳感器，可直接監測樣品溫度；
4）支持生長其他各種碳納米材料（碳納米管、碳納米線等）；
技術指標：
暫無數據！
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