看了PECVD沉積的用戶又看了
留言詢價
虛擬號將在 180 秒后失效
使用微信掃碼撥號
PECVD沉積
Minilock-Orion III是一套***的等離子增強型化學汽相沉積(PECVD)系統。 系統的下電極尺寸可為200mm或300mm,且根據電極配置,可以處理單個基片或帶承片盤的基片(3”- 300mm尺寸),或者多尺寸批處理基片(4x3”; 3x4”; 7x2”)。
Minilock-Orion III用于有毒/發火PECVD工藝。沉積薄膜:氧化物、氮氧化物、氮化物、無定形硅和碳化硅。工藝氣體:100%硅烷、氨、TEOS、二乙基硅烷、氧化亞氮、氧、氮、三甲基硅烷和甲烷。
該系統可選配一個三極管(Triode)或電感耦合等離子(ICP)源。三極管源使得用戶可以創建高密度等離子,從而控制薄膜應力。
基片通過預真空室裝入工藝室,其避免了與工藝室以及任意殘余沉積副產品接觸,從而提高了用戶的安全性。預真空室還使得工藝室始終保持在真空下,從而保持反應室與大氣隔絕。
暫無數據!
PECVD沉積的工作原理介紹?
PECVD沉積的使用方法?
PECVD沉積多少錢一臺?
PECVD沉積使用的注意事項
PECVD沉積的說明書有嗎?
PECVD沉積的操作規程有嗎?
PECVD沉積的報價含票含運費嗎?
PECVD沉積有現貨嗎?
PECVD沉積包安裝嗎?
手機版: