中國粉體網(wǎng)訊 近年來,半導(dǎo)體技術(shù)集成化進程持續(xù)提速,光刻工藝不斷升級,對半導(dǎo)體器件材料的精度要求也隨之水漲船高。光掩膜技術(shù)作為半導(dǎo)體制造的核心環(huán)節(jié)之一,其制作材料涵蓋玻璃基板、鍍鉻膜層、光刻膠、光學(xué)膜等,其中玻璃基板為核心原[更多]
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