推薦ALD緣何成為一項半導體領域的關鍵技術

中國粉體網訊 經過將近30年的發展，作為功能薄膜制備中的一項關鍵技術，原子層沉積（ALD）技術在催化、半導體、光學等眾多領域都發揮著十分重要的作用。ALD最初用于平板顯示器所需的多晶熒光材料ZnS、Mn以及非晶Al2O3絕緣[更多]