推薦原子層沉積技術(shù)在金屬粉體領(lǐng)域的應(yīng)用

中國粉體網(wǎng)訊 原子層沉積（Atomic Layer deposition, ALD）技術(shù)是化學(xué)氣相沉積法（CVD）的一種，最初是由芬蘭科學(xué)家提出并用于多晶熒光材料ZnS、Mn以及非晶 Al2O3絕緣膜的研制，這些材料用于平板[更多]