推薦氧化硅拋光材料的制備、改性及應用

中國粉體網訊 氧化硅因具有硬度適中、分散性好、穩定性好、易儲存等優點成為CMP磨料的首選。在精拋過程中，大尺寸顆粒的氧化硅磨料容易在硅片上產生劃痕和拋光霧等缺陷，而粒徑尺寸小（＜50nm）的氧化硅磨料可以實現硅片的全局平坦化[更多]