推薦晶圓拋光的“三重奏”：如何用精準拋光液配方實現高平整表面？

中國粉體網訊 近日，國家知識產權局信息顯示，西安奕斯偉材料科技股份有限公司取得一項名為“用于最終拋光工藝的處理方法及拋光晶圓”的專利，可以在對晶圓表面進行前序工藝損傷去除和鏡面化修復的同時減少微分干涉對比缺陷的形成。來源：國[更多]