中國粉體網(wǎng)訊 西班牙加泰羅尼亞納米科技研究所Aitor Mugarza, César Moreno和西班牙圣迭戈·德孔波斯代拉大學Diego Pea團隊合作,報道了一種化學分子前驅體聚合制備1 nm孔半導體石墨烯的新策略。
研究人員采用類似石墨烯納米帶的合成策略,以DP-DBBA為分子前驅體,在Au(111)單晶表面。在200℃時分子開始聚合,在400℃左右開始形成納米帶。和之前的石墨烯納米帶不一樣的是,這種石墨烯納米帶結構并不是規(guī)則的直線型,因此,當進一步進行450℃的退火操作時,石墨烯納米帶并沒有繼續(xù)變寬形成更寬的納米帶,而是聚合形成納米孔結構的石墨烯。

(中國粉體網(wǎng)編輯整理/墨玉)
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