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國內高純石英材料領域迎來一項顛覆性進展。領軍企業精硅科技有限公司（以下簡稱“精硅科技”）宣布，其研發團隊已成功攻克超高純石英砂的合成技術壁壘，實現了純度高達99.99999% 產品的規模化穩定生產。這項突破性成果，標志著我國在頂級石英材料領域實現了從“受制于人”到“自主可控”的重大跨越，為高端光學、半導體及航空航天產業的發展奠定了堅實的材料基石。

純度躍遷：為“光明”之路掃清障礙

精密光學透鏡的性能極限，歸根結底取決于其核心基材——合成石英玻璃的純度。任何微量的金屬雜質都如同光線通路上的“路障”，會導致散射、吸收和像差，使成像模糊、激光能量耗散。

精硅科技此次推出的超高純石英砂，將總金屬雜質含量穩定控制在＜0.1 ppm（百萬分之一） 的極致水平，對關鍵致色元素如鐵（Fe）、銅（Cu）等的含量更是達到了＜5 ppb（十億分之五） 的原子級標準。這種近乎“絕對純凈”的材質，從源頭上確保了光學玻璃具備無可比擬的“先天優勢”，為制造世界頂尖的光學元件提供了可能。

性能巔峰：定義精密光學新標準

基于該材料合成的光學級熔融石英玻璃，其性能參數達到了國際頂尖水準，完美契合了最嚴苛的應用需求：

• 極致透過率： 在深紫外（DUV）至紅外（IR）的廣闊波段內，表現出近乎零損耗的光透過性（@193nm波長下 >99.6%），極大提升了光刻機及精密激光系統的能量效率。

• 卓越均勻性： 折射率的一致性偏差可控制在 ＜1 ppm（±1×10??） 以內，確保了光線波前無相位畸變，成就了超高精度成像所必需的完美平面。

• 內在穩定性： 極低的內部應力（雙折射值＜5 nm/cm）和優異的抗輻照性能，保證了光學元件在高能激光或嚴酷太空環境中性能的長期穩定與可靠。

賦能創新：驅動前沿科技發展的核心引擎

這一材料的突破，正迅速轉化為多個高端領域的核心競爭力：

1. 半導體光刻： 成為EUV（極紫外）與DUV（深紫外）光刻機投影物鏡組和照明系統的核心材料，直接支撐著先進制程芯片的制造與良率提升。

2. 太空探索： 為新一代太空望遠鏡、高分辨率遙感衛星鏡頭及星載光學系統提供鏡坯，其超凡穩定性保障了在軌長期可靠運行。

3. 高端科研： 應用于同步輻射光束線、大型激光核聚變裝置（ICF）、超分辨率顯微系統等大國重器，滿足前沿科學探索對光學極限的追求。

4. 先進制造： 制造用于半導體檢測設備、高精度激光加工頭、光纖陀螺儀等高端裝備中的核心光學部件。

突破壁壘，照亮國產高端制造新征程

精硅科技此次技術突破，徹底打破了國外企業在頂級石英材料領域的長期壟斷，解決了我國高端光學產業發展的“卡脖子”難題。目前，公司產品已獲得國內多家頂尖光學期貨廠商和科研機構的高度認可，并成功實現批量應用。

“我們破解的不僅是純度的密碼，更是中國高端光學產業自主發展的枷鎖。”精硅科技總經理表示，“未來，我們將持續聚焦于超高純材料的性能邊界探索，以更卓越的產品賦能中國智造，為從芯片到太空的每一個‘清晰視界’提供中國解決方案。”