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CVD-Quadiance6/8吋薄膜沉積設備品牌
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Quadiance 系統適用于6/8 氧化硅、氮化硅、氮氧硅介質層等薄膜沉積工藝。平臺采用多腔體架構,每個腔體可以實現2片晶圓同時工藝,提升系統WPH。廣泛應用于集成電路,化合物半導體,功率半導體以及MEMS等領域。
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