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TALD-D 雙腔熱型原子層沉積系統(tǒng)
TALD-D 雙腔熱型原子層沉積系統(tǒng)

參考價(jià)格

面議

型號(hào)

TALD-D 雙腔熱型原子層沉積系統(tǒng)

品牌

嘉興科民

產(chǎn)地

浙江

樣本

暫無(wú)
嘉興科民電子設(shè)備技術(shù)有限公司

高級(jí)會(huì)員

|

第1年

|

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ALD系列原子層沉積系統(tǒng)是專(zhuān)門(mén)為先進(jìn)半導(dǎo)體工藝開(kāi)發(fā)的薄膜沉積系統(tǒng)，已在國(guó)內(nèi)高校和科研院所裝機(jī)超百臺(tái)。以?xún)?yōu)良的品質(zhì)，極高的可靠性，超長(zhǎng)的使用壽命受到客戶(hù)的認(rèn)可，產(chǎn)品性能和售后服務(wù)得到用戶(hù)一致好評(píng)。

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產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性?xún)r(jià)比

10分
評(píng)論內(nèi)容
暫無(wú)評(píng)論！
公司動(dòng)態(tài)
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