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單片清洗設備 GMC-12SC
單片清洗設備 GMC-12SC

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型號

GMC-12SC

品牌

產地

無錫

樣本

暫無
吉姆西半導體科技(無錫)股份有限公司

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設備特點:

 疊堆設計**可配置12個腔室

 上下層傳送系統提供多達350wph的吞吐量

 可配置可正背面清洗,藥液種類多達5種,可回收2種藥液

 腔體可配備二流體霧化噴嘴

 腔室可將化學飛濺降至*低,確保腔體清潔晶圓加工環境

 腔體超潔凈空氣動態平衡均一性好


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產品質量

10分

售后服務

10分

易用性

10分

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10分
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