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何彥剛

推薦CMP技術(shù)正在朝“三低一高”方向發(fā)展——訪(fǎng)河北工業(yè)大學(xué)副研究員何彥剛

中國(guó)粉體網(wǎng)訊 7月9日,由中國(guó)粉體網(wǎng)主辦的“2024高端研磨拋光材料技術(shù)大會(huì)”在河南鄭州成功召開(kāi)。會(huì)議期間,我們邀請(qǐng)到多位專(zhuān)家學(xué)者、企業(yè)家代表做客“對(duì)話(huà)”欄目,圍繞高端研磨拋光材料的技術(shù)與應(yīng)用現(xiàn)狀及發(fā)展方向進(jìn)行了訪(fǎng)談交流。本[更多]

資訊 CMP后清洗集成電路三低一高何彥剛
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