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推薦CMP技術(shù)正在朝“三低一高”方向發(fā)展——訪河北工業(yè)大學(xué)副研究員何彥剛

中國粉體網(wǎng)訊 7月9日,由中國粉體網(wǎng)主辦的“2024高端研磨拋光材料技術(shù)大會”在河南鄭州成功召開。會議期間,我們邀請到多位專家學(xué)者、企業(yè)家代表做客“對話”欄目,圍繞高端研磨拋光材料的技術(shù)與應(yīng)用現(xiàn)狀及發(fā)展方向進(jìn)行了訪談交流。本[更多]

資訊 CMP后清洗集成電路三低一高何彥剛
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