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湖南頂立科技股份有限公司
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公司介紹

湖南頂立科技股份有限公司

湖南頂立科技股份有限公司創建于2006年,專注于特種材料及特種熱工裝備研制、生產和銷售。公司是A股主板上市公司(楚江新材002171)的控股子公司,國家產業投資基金投資企業。公司擁有“全國博士后科研工作站”、 “航空動力特種焊接技術與材料湖南省國防科技重點實驗室”、“湖南省新型熱工裝備工程技術研究中心”、“綠色節能熱工裝備與智能控制技術湖南省工程實驗室”、“航天航空熱工裝備湖南省工業設計中心”等創新平臺。公司攻克了長期制約我國熱工裝備及新材料領域的重大關鍵核心技術,取得了一系列科技成果。截至2025年6月,已獲授權**192項,其中***112項;牽頭/參與完成國家、行業標準19項;完成科技成

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主推產品

真空燒結爐(碳化硅/氮化硅/氮化鋁)
型號:HVSF

該設備可用于陶瓷胚體和制品的反應燒結、無壓燒結、重結晶燒結等,也可用于陶瓷粉體材料的制備。☆采用頂立科技專屬超高溫、大電流引電技術,能在高溫條件下長時間穩定使用;☆采用特殊的高溫紅外測量技術,控溫準確,誤差小;☆配置專屬密封馬弗,產品產生的硅蒸汽等副產物對加熱器及絕緣材料等的污染小;☆采用專用尾氣處理裝置,環境友好,易清理;☆可選擇配置脫脂系統,實現陶瓷制品的脫脂燒結一次性處理。☆爐門:絲桿升降/液壓升降/手動升降;手動鎖緊/自動鎖圈鎖緊☆爐殼:全碳鋼/內層不銹鋼/全不銹鋼☆爐膽:軟碳氈/軟石墨氈/硬質復合氈/CFC☆加熱器、馬弗:等靜壓石墨/模壓三高石墨/細顆粒石墨☆工藝氣路系統:體積/質量

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氮化硅壓力燒結爐(臥式)
型號:HPSF-4412

氮化硅壓力燒結爐(臥式)產品描述:氮化硅壓力燒結爐(臥式)主要用于半導體領域氮化硅陶瓷制品的真空燒結和氣壓燒結等。應用范圍:氮化硅陶瓷球、軸承、導熱基板、平臺、導軌、刀具、結構件等。氮化硅壓力燒結爐(臥式)技術特征采用特殊的爐膽結構和加熱器布置,爐溫均勻性好;全密閉馬弗,密封效果好,抗污染能力強;可具備真空燒結、壓力燒結、負壓脫脂燒結等功能;具有超溫超壓等故障報警,機械式自動壓力保護,動作互鎖等功能,設備安全性高;可選配脫脂系統,實現陶瓷制品的脫脂燒結一次性處理;適于工藝氣氛:N2/Ar/H2。氮化硅壓力燒結爐(臥式)產品規格型號/參數HPSF-4412HPSF-5518HPSF-6615HP

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臥式化學氣相沉積爐(碳化硅)
型號:HCVD-060609-C

臥式化學氣相沉積爐(沉積炭)主要用于以碳氫氣體(天然氣、丙烷、丙烯)為碳源的預制體氣相滲透增密處理電阻爐可采用多溫區獨立控溫,溫度均勻性好;采用智能壓力調控,壓力波動小;全封閉沉積室,密封效果好,抗污染能力強;多通道工藝氣路,流程均勻,無沉積死角,沉積效果好;多級高效尾氣處理系統,環境友好,能高效收集焦油及副產物,易清理;可選配外循環快冷系統,降溫時間短,生產效率高;參數\型號HCVD-060609-CHCVD-101015-CHCVD-121220-CHCVD-151530-CHCVD-152023-CHCVD-252035-C工作區尺寸W×H×L(mm)600×600×9001000×10

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真空燒結爐(碳化硅/氮化硅/氮化鋁)

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氮化硅壓力燒結爐(臥式)

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臥式化學氣相沉積爐(碳化硅)

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  • 真空熱處理裝備
  • 固廢熱解裝備
  • 高純碳材料
臥式化學氣相沉積爐(碳化硅)

型號:HCVD-060609-C

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臥式真空石墨化爐

型號:HVG-060609

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立式真空碳化爐

型號:VVC-0608

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臥式真空碳化爐

型號:HVC-060609

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立式真空裂解爐

型號:VVP-0608

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臥式真空裂解爐

型號:HVP

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真空浸漬爐

型號:VPI-0305

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間歇式提純爐(臥式)

型號:VPF

100-150萬元
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氮化硅壓力燒結爐(臥式)

型號:HPSF-4412

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連續式燒結爐

型號:PCF-1216

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立式真空(脫脂)燒結爐(碳化物陶瓷)

型號:V(D)SC

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碳化硅燒結爐(臥式)

型號:HSC-050511

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壓力熔滲爐

型號:PMI-0304-M

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立式雙室真空氣冷油淬爐

型號:VVOQ-1520D

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廢電池再生利用處理成套裝備,固廢熱解設備

型號:SBF-1500/200-14

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廢電池熱解回收成套裝備(天然氣還原)

型號:SBF-550/55-10

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廢電池熱解回收成套裝備(碳還原)

型號:SBF-150/30-5

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廢電池熱解回收成套裝備(氫氣還原)

型號:SBF-1500/80-14

150-200萬元
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TaC 碳化鉭涂層

型號:acme

1-5萬元
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臥式化學氣相沉積爐(碳化硅)

型號:HCVD-060609-C

面議
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臥式真空石墨化爐

型號:HVG-060609

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立式真空碳化爐

型號:VVC-0608

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臥式真空碳化爐

型號:HVC-060609

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立式真空裂解爐

型號:VVP-0608

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真空浸漬爐

型號:VPI-0305

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型號:VVC-0608

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臥式真空碳化爐

型號:HVC-060609

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立式化學氣相沉積爐(SiC、BN)

型號:VCVD-0608-SIC

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臥式化學氣相沉積爐(SiC、BN)

型號:HCVD-060609-SIC

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立式化學氣相沉積爐(沉積炭)

型號:VCVD-1822-C

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型號:VHP-445

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型號:VDP-446

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型號:VHVB-0608S

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型號:VPI-0305

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《人民日報》頭版報道:頂立科技胡祥龍堅守科研一線 勇攀技術高峰

2025年國慶、中秋雙節期間,當萬家團圓、燈火璀璨之時,無數平凡奮斗者堅守崗位,用實干與創新書寫責任擔當。湖南頂立科技股份有限公司副總經理、湖南省新型熱工裝備工程技術研究中心主任胡祥龍博士帶領團隊默默堅守在科研生產一線。其事跡被《人民日報》頭版報道,成為科技領域堅守奉獻的典范。這份來自國家級媒體的關注,不僅是對胡祥龍個人創新實干的肯定,更是對頂立科技深耕高端熱工裝備制造、踐行科技自立自強的高度認可

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