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RTR濺鍍
| 主輥直徑 | 1,000mm(φ) x600/1500mm(D) |
| 真空室 | 5 chambers (Unwind、Pre-Heat、 Coating 、Cooling 、Rewind |
| 有效涂層寬度 | 1,350mm/500mm |
| 厚度 | 15~250μm |
| 速度 | 0.5~20M/min |
| 傳輸張力 | 2~7Kg @1~3 m/min |
| 對準 | ≤±2mm@1~3m/min |
| 濺射材料 | ITO 、Nb?O5,、SiO2、Si、NbzOX、Cu |
| 厚度均勻性 | ≤±3% |
| 靶材利用率 | 70% |
| 陰極 | Rotatable cathode 4~ 6 sets |
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