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離子束濺射沉積系統
Description:
●低壓濺鍍沉積(10-4Torr)
●高質量、平滑、無針孔無針孔薄膜
●可實現<+/-3%的均勻沉積
●增強的附著力和微觀結構控制
●**的覆蓋效果高寬比特征
●獨立控制離子束參數，使用戶能夠設計薄膜以獲得所需的特性
●低能量離子輔助端霍爾離子源
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