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eVictor PVD Al設備是一款應用于12英寸集成電路領域的高端PVD設備，系統集成了高溫去氣、等離子體預清洗、高溫Al、TaN、TTN等多種工藝模塊，并實現在系統內部的工藝整合。涉及大平臺傳輸、高溫靜電卡盤、先進磁控濺射源設計、厚鋁Whisker Defect控制以及軟件控制等多項關鍵技術。
設備特點
?先進的磁控濺射系統，有效提高薄膜均勻性及靶材利用率
?專業的加熱基座和高溫靜電卡盤設計，具備良好的溫度均勻性
?全新雙腔傳輸平臺，可配置性強，可支持10個工藝模塊
?優秀的Whisker Defect解決方案，降低產品缺陷
?大產能，低運營成本
產品應用
?晶圓尺寸：12英寸
?適用材料：鋁、氮化鉭、氮化鈦、鈦
?適用工藝：AlPad、鋁線、熱鋁
?適用領域：集成電路、功率半導體、硅基微型顯示
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