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EPEE i200品牌
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EPEE i200系列主要用于6/8英寸氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃等薄膜沉積工藝，平臺式多反應腔架構，兼容Si、SiC、GaAs等不同襯底材料，廣泛應用于集成電路、化合物半導體、功率半導體、半導體照明、硅基微型顯示、科研等領域。
設備特點
?先進的單腔雙片架構，兼具產能和性能優勢
?高效傳輸系統，智能軟件調度算法
?高效遠程等離子體清洗系統，良好的顆?？刂?/span>
?支持氣態硅烷和液態正硅酸乙酯兩類沉積工藝
產品應用
?晶圓尺寸：6/8英寸兼容
?適用材料：氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、非晶硅、非晶碳、PSG、BPSG
?適用工藝：掩膜層沉積、鈍化層沉積、絕緣層沉積
?適用領域：集成電路、化合物半導體、功率半導體、LED、硅基微顯、科研
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