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HORIC L200 LPCVD系統，主要用于半導體產線8英寸及以下晶圓淀積SiN、POLY、SiO?等薄膜，設備工藝性能好、產能大、可靠性高，可滿足半導體領域的多種產線需求。設備包含凈化工作臺、爐體機箱、氣源柜、真空系統及電氣控制系統五大部分，相關模塊齊全，可根據不同客戶需求進行配置。
設備特點
?可根據客戶需求配置多工藝組合的機臺
?高可靠性、穩定性
?安全性能高，設備及所使用的元件符合國家和國際標準
?可提供先進成熟的MES系統解決方案
?良好的工藝技術支持
產品應用
?晶圓尺寸：4、6、8 英寸
?適用材料：硅、碳化硅、硅基氮化鎵
?適用工藝：氮化硅、氧化硅、多晶硅、摻雜多晶硅、PSG、BPSG
?適用領域：化合物半導體、襯底材料、科研領域
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